POSITIV RESIST - светочувствительное покрытие, позволяющее фотокопировать линии, формы и контуры. Он предлагает относительно простую процедуру аккуратного переноса любого изображения на самые различные материалы. POSITIV RESIST лёгок в применении, быстро высыхает, обеспечивает хорошую контрастность и высокую точность.
Техические данные:
- цвет: густо-фиолетовый;
- плотность: 0,85 г/см;
- время высыхания: 30 - 60 мин. (при 20°С);
- светочувствительность: 310 - 440 нм, макс. 330 - 420 нм;
- объём: 200мл.
|
